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西城镀膜厚度测定用专业仪器厂商-光刻胶简介

作者: 发布时间:2022-07-02 20:45:43点击:1953

信息摘要:

大家好,这里是老上光显微镜知识课堂,在这里你可以学到所有关于显微镜知识,好的,请看下面文章:镀膜厚度测定用专业仪器厂商-

大家好,这里是老上光显微镜知识课堂,在这里你可以学到所有关于显微镜知识,好的,请看下面文章:
镀膜厚度测定用专业仪器厂商-光刻胶简介


光刻显影后(5nm线宽,1微米厚的光刻胶(350nm)),
在氧化层的硅片表面镀金30nm,镀完后,在丙酮泡30分钟都没有什么效果,
去不了胶,照理说金的厚度并不至于把光刻胶包上啊,怎么就是去不了胶。
用超声试过,胶能去除,但是同时把需要的金薄膜也去除一部分了

回答
问题是lift-off困难的问题。首先lift-off要有under-cut结构才能很好地进行,
如果出现over-cut就会影响lift-off效果。当然如果镀膜方法选择得当,比如电子束蒸镀,
也能让lift-off进行顺利些。解决问题的主要办法就是获得under-cut结构,
比如用双层胶工艺或用lift-off resist等。另外,我知道有很多胶都有除胶剂,
光刻胶就配有相应的除胶剂
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