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西城使用SEM电子显微镜量测焊接熔深的微观结构

作者: 发布时间:2022-07-02 20:45:14点击:2520

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大家好,这里是老上光显微镜知识课堂,在这里你可以学到所有关于显微镜知识,好的,请看下面文章:使用SEM电子显微镜量测焊接

大家好,这里是老上光显微镜知识课堂,在这里你可以学到所有关于显微镜知识,好的,请看下面文章:
使用SEM电子显微镜量测焊接熔深的微观结构

制程参数对微流道热影响区之影响
利用 SEM电子显微镜 所拍摄典型的微流道热影响区金相图,
颜色较暗处为其热影响区

有制程条件下,微流道热影响区纵深范围均约 50μm,误差±5μm。
可知,雷射淬火产生的变形相当小,因为它是高能量热源的移动淬火,
热影响区比普通淬火方法小得多;另外将雷射作用于工件之试验
区时,由于基材的质量远大于工件之试验区,使工件
试验区急遽冷却,属于自冷淬火,亦将导致工件变形
量极小且热影响区较小。
虽然其制程条件不同,但在所设定的制程条件下,其所
供给的热能决大部份是用于将硅芯片直接汽化,导致
其微流道宽度与深度的差异。而对于其剩馀的热能所
引起的热影响区则无明显之差异。因此,微流道热影
响区在各制程参数下,其影响的变化差异并不明显

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