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矿物质样品的表面特性测定分析专业偏光显微镜
使用了激光直写玻片当作光罩的基底，发展出只需
一次的曝光、显影的程序，即可让光阻产生不同厚度之灰阶光罩技术。
传统上，绕射式光学元件之制作，是采用二元多光罩与蚀刻制程
的方式﹔而灰阶光罩的技术，可以使得制作程序大幅的简化，并且可
以减少制作上的误差。
量测了不同类型的激光直写玻片(type1、type2、GS11)
之穿透率谱线，以了解不同波长的光对玻片之吸收情形。并测试了不
同显微镜物镜之聚焦效果，最后选用了日本 Olympus 系列的物镜。
再以物镜(NA=0.1、0.25)将激光(波长 442nm)光束聚焦，写入 type1
玻片，并控制写入的光强，可将玻片之穿透率由原先的 0.145 变化至
0.64，制作出周期为 9μm 之三角形光栅的光罩，以及周期为 10μm 之
闪耀式光栅的光罩。
与中央大学机械工程研究所合作，建立了一套写入系统，可以自
动化的制作光罩。以波长 532nm 之激光束以 NA=0.4 之物镜聚焦写
入 GS11 玻片。将玻片之穿透率由 0.08 变化至 0.5 左右。也是成功的
做出了闪耀式光栅之灰阶光罩，且利用微影制程的技术做出了周期为
46μm(Q=0.9)与 15μm(Q=0.83)之闪耀式光栅。并以光学显微镜，扫描
式电子显微镜，原子力显微镜来观测元件，加以印证灰阶光罩技术的成果
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