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TEM基本构成与原理
大致上可分成以下几个部份：电子源系统、电磁透镜系统、试片室、以及最后成像系统。
大量的电子经高压作用由灯丝射出并加速获得能量后再由聚光镜作用形成电子束，
电子束通过试片后会分开成直射电子束及绕射电子束，这些电子束再经由电磁透镜系统的作用最后
以放大影像或绕射图形(diffraction patterns)的形式投影在成像平面上。
电子源系统是由电子光束及聚光镜所构成，电子光束的重要特性是亮度要足够高，且能量散佈要小。
目前常见的电子光束类型大致可分为钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、及场发射(field emission)电子光束等三种，
前两种是采热游离方式来萃取出灯丝中的电子，而场发射的原理则是当真空中的金属表面受到108V/cm大小的电场加速时
会有可观的电子经由"Schottky"效应而发射出来。三种电子光束的亮度比依序为1:10:1000，
场发射电子光束因同时具有高亮度及低的电子能量散佈，因此现在高解析度的TEM多采用此种形式的电子光束。
场发射电子光束的电子产生率受真空度的影响很大，须在约10-9-10-10 torr的真空度下操作。
真空度若不够高，除电子产生效率低外，灯丝的寿命也容易减低。电子源系统的真空要求度是整个TEM中更高的部份，
通常会搭配离子泵浦(ion pump)来维持真空状态。
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