二手显微镜市场光刻：精密仪器的模型

大家好，这里是老上光显微镜知识课堂，在这里你可以学到所有关于显微镜知识，好的，请看下面文章： 用户1914683563 2018—05-19 18:22
    
     面对美国4月份对中兴通讯芯片的禁运，我们感到被别人牵着很痛苦，而生产高性能芯片的关键设备是光刻机。今天我们来谈谈光刻机。
    
     掩模对准器(Mask Aligner)，又称掩模对准光刻、曝光系统、光刻系统等，其中掩模对准光刻是比较常用的光刻，本文主要收集数据和实例来掩模对准光刻。
    
     高端投影光刻机可分为两类：步进投影光刻和扫描投影光刻。分辨率通常介于十纳米和几微米之间。高端光刻机被称为世界上更先进的仪器。高端光刻机是现代光学工业的结晶。制造起来很困难。目前，世界上只有少数几家公司能生产。
    
     国外光刻品牌主要包括荷兰ASML、日本尼康和日本佳能，国内光刻机主要为拥有自主知识产权的上海微电子设备有限公司的SMEE。目前，公司的光刻机已初步形成一系列产品，并开始在国内外销售。
    
     制造和发展的低端光刻机是接近和接触式光刻机，其分辨率通常超过几微米，主要是德国、美国和中国品牌。
    
     光刻机的主要性能指标是尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等硬指标。
    
     1）分辨率是光刻工艺所能达到的最的线精度。光刻的分辨率主要受光源的衍射极限的限制，也就是说，我们称之为阿贝极限（光学显微镜的分辨率极限约为波长的一半）。一般来说，光刻机的分辨率受光学系统、光致抗蚀剂和光刻工艺的限制。
    
     一般光刻工艺要经过晶片表面的清洗、干燥、涂布、旋涂光致抗蚀剂、软干燥、对准曝光、干燥、显影、硬干燥、蚀刻等工序。用光刻胶将掩模上的图案或电路结构转移到硅片上，然后通过光学蚀刻在硅片上蚀刻内容。
    
     曝光系统是光刻机的核心部件之一。为了减小衍射极限，采用大量的紫外光、深紫外光和极紫外光作为光源，如水银灯、准分子激光器等，曝光系统主要实现平滑衍射效应、均匀照明、成膜等功能。闪烁和冷光处理、强光照明和光强调部分。曝光模式分为接触接近、投影和直接写入。但一般来说，在曝光系统中使用的光源必须满足以下要求：
    
     波长越短，边缘越锐利，用于刻蚀的特征尺寸越小，刻蚀工艺对精度的控制越好。
    
     曝光区域中光的均匀性或平行性越高，硅片上刻蚀痕迹的深度和宽度越一致，刻蚀精度越高，越容易控制。
    
     对准系统是光刻机的另一核心部件。制造高精度对准系统需要近乎完美的精密机械加工，这也是全球光刻机的技术难点。许多美国和德国品牌的光刻机都有专门的专利机械工艺设计，如可以有效地避免轴承机械摩擦，所有空气动力轴承的专利设计技术都带有擦除误差。
    
     当然，显微光学系统和CCD探测器是光刻机对准系统的另一个难题，根据操作的简单和精度，光刻机的对准模式可分为手动、半自动和自动三种。
    
     为缩短我国与国际先进光刻技术的差距，打破国际高端光刻机市场的垄断和制约，在02s规划中确定了发展高端光刻机的战略目标。我国特殊项目，32-22nm设备技术前瞻性研究的重点任务包括EUV光刻的关键技术。长春光机研究所、成都光电子研究所、上海光机研究所、微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨理工大学、华中科技大学等研究所。科研院所共同解决了关键问题。
    
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